A liga ternária de Co-W-P foi eletrodepositada e otimizada em parâmetro operacional e de pH em relação a sua resistência a corrosão. O desenvolvimento de banhos estavéis com níveis de pH relativamente baixos e a utilização de agentes complexantes para estabilizar é crucial para obtenção de filmes de boa qualidade e para aumentar o tempo de vida do banho eletrolitico. O efeito da densidade de corrente e do pH para se obter Co-W-P, resistente à corrosão tem sido estudada no presente trabalho. A metodologia de superficie de resposta foi usada como ferramenta de otimização. Os banhos utilizados para a obtenção desta liga sem agentes complexantes eram instáveis. Películas de boa qualidade da liga de Co-W-P foram obtidas utilizando um banho eletroquímico com o agente complexante. Os revestimentos obtidos mostraram adesão e bom brilho. A caracterização e morfologia da liga foi realizada ulizando um espectrômetro de fluorescência de raio-x por energia dispersiva (EDX) e microscópia eletrônica de varredura (MEV). As otimas condições de operação para a obtenção deste filme foram densidade de corrente de 6 mA/cm² e pH de 4,0. No entanto, foi observada a presença de micro nódulos e trincas na superfície da liga estudada.